Sala de Fotolitografía

 

En esta sala se realizan todos los procesos de impresión fotolitográfica. Estos procesos se manejan a través de 3 equipos que poseen características complementarias generando una interesante combinación en la cadena de producción fotolitográfica.

Mesa Ampliadora: equipo usado para fabricar las máscaras usadas en los procesos de fotolitografía. El equipo Aligner requiere del uso de máscaras para transferir patrones a substratos.

Aligner Karl-Suss: equipo de fotolitografía que precisa el uso de máscaras para transferir patrones. Los patrones contenidos en las máscaras son transferidos a un substrato fotosensible mediante radiación ultravioleta. Aunque sólo puede ser usado en substratos convencionales (obleas de silicio), permite una mayor resolución que el SF-100 de manera que se pueden construir estructuras más pequeñas.

Sistema de micro-impresión SF100: equipo de fotolitografía que realiza proyección de patrones sobre cualquier tipo de superficie (no necesariamente silicio) sin involucrar el uso de máscaras. Es el único sistema con la capacidad de hacer micropatterning sin mascaras sobre todo tipo de superficies (blandas y sólidas). Esto presenta mayor versatilidad para nuestras aplicaciones, pues es posible usar materiales no convencionales para la fabricación de microsistemas. Esto último amplía el espectro de investigación en materiales.

 

Sala Limpia: fotolitografía

En la sala de fotolitografía se realizan todos los procesos de impresión fotolitográfica. Estos procesos se manejan a través de 3 equipos que poseen características complementarias generando una interesante combinación en la cadena de producción fotolitográfica.

Mesa Ampliadora: Equipo usado para fabricar las máscaras usadas en los procesos de fotolitografía. El equipo Aligner requiere del uso de máscaras para transferir patrones a substratos.

Aligner Karl-Suss: Equipo de fotolitografía que precisa el uso de máscaras para transferir patrones. Los patrones contenidos en las máscaras son transferidos a un substrato fotosensible mediante radiación ultravioleta. Aunque sólo puede ser usado en substratos convencionales (obleas de silicio), permite una mayor resolución que el SF-100 de manera que se pueden construir estructuras más pequeñas.

Sistema de micro-impresión SF100: Equipo de fotolitografía que realiza proyección de patrones sobre cualquier tipo de superficie (no necesariamente silicio) sin involucrar el uso de máscaras. Es el único sistema con la capacidad de hacer micropatterning sin mascaras sobre todo tipo de superficies (blandas y sólidas). Esto presenta mayor versatilidad para nuestras aplicaciones, pues es posible usar materiales no convencionales para la fabricación de microsistemas. Esto último amplía el espectro de investigación en materiales.
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