En esta sala se realizan ataques químicos húmedos de baja y alta profundidad en sustratos de vidrio, silicio y algunos polímeros; ataques químicos para el grabado de metales y óxidos; así como evaporación de capa delgada de metales, óxidos y otros compuestos. De igual forma se realizan todos los experimentos que involucren reactivos químicos distintos a los utilizados en la sala de fotolitografía. Para la realización de estos procesos contamos con los siguientes equipos:
Evaporador Térmico Edwards: realiza deposiciones de metales y óxidos sobre substratos por medio de la condensación del material depositante. Es necesario para la deposición de materiales necesarios en la construcción de microestructuras.
Cabina de ataque químicos: es el espacio que permite realizar ataques químicos húmedos con ácidos y bases para el grabado de sustratos, metales, óxidos y polímeros.
pH-metro: equipo esencial para la calibración del pH o la caracterización de conductividad de muestras líquidas.
Balanzas Analítica y de gramaje: equipos necesarios para el pesaje de material o el monitoreo de cambios de peso a escalas analíticas como de baja precisión.
Agitadores y planchas de calentamiento: equipos destinados a controlar las condiciones térmicas y de agitación de las distintas reacciones químicas.
Mufla: horno de alta capacidad térmica para realizar experimentos y ataques secos a altas temperaturas
Sala Limpia: Procesos Físico Químicos